Autores
Báez Medina Héctor
Título Room Temperature Plasma Oxidation: A New Process for Preparation of Ultrathin Layers of Silicon Oxide, and High Dielectric Constant Materials.
Tipo Revista
Sub-tipo Indefinido
Descripción Thin Solid Films, Elsevier
Resumen
Observaciones
Lugar
País
No. de páginas 546-554
Vol. / Cap. 496 (2)
Inicio 2006-01-01
Fin 2005-11-30
ISBN/ISSN